厦门鑫达新超声波设备有限公司,出售专业生产的,价格实惠的,质量保证的太阳能清洗。
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较近几年世界太阳能光伏技术普遍得到各国相关部门的重视和技支,也成为光伏产品的快速发展趋势。价格的上升命使太阳能池成本增加,为了提高生产效率,提高竟争力,太阳能生产厂商都加大力度降低硅片率,降低生产成本,同时对池硅片的质量提出了高要求,在生产过程中应用超声波清洗技术更加满足了生产商的这一要求。
适用于2”-8”基片的半导体清洗工艺中,有效去除硅/晶片表面的有物,颗粒,金属杂质,自然氧化层及石英,塑料等附件皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。根不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有单独制,随意组合；可根用户要求配置氮 枪,DI水枪,恒温水浴,热台,超声清洗,DI水在线加热置,DI水导率测试仪等。设备结构紧凑,净化占地面积小,造型美观,实用,操作符合人工程原理。
 
应用范围 
设备适用于：
1
炉前清洗：扩散前清洗。
2
光刻后清洗：除去光刻胶。
3
氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
4
抛光后自动清洗：除去切,磨,抛的沾污。
5
外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
6
合金前,表面钝化前清洗：除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣
7
离子注入后的清洗：除去光刻胶,SiO2层
8
扩散预淀积后清洗：除去预淀积时的BSG和PSG。
9
外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
10
CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。
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